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微細加工技術 / 高分子学会編

(ポリマーフロンティア21シリーズ;13)

データ種別	図書
出版者	東京 : エヌ・ティー・エス
出版年	2002.9
著者標目	高分子学会 <コウブンシガッカイ> 大津, 元一(1950-) <オオツ, モトイチ> 河田, 聡 <カワタ, サトシ> 益子, 信郎 <マシコ, シンロウ> 下田, 達也 <シモダ, タツヤ> 東, 博純緒方, 寿幸

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配架場所	巻　次	請求記号	登録番号	状　態	コメント	ISBN	刷　年	予約	利用注記
理学単行本	基礎編	549.9\|\|Ko14	11040953			4860430069	2002

書誌詳細を非表示

大きさ	v, 192, vp ; 27cm
内容注記	基礎編: 近接場光学を用いたナノフォトニクスとそのための微細加工 / 大津元一 [執筆] フェムト秒レーザーによる超微細光造形法 / 河田聡 [執筆] 自己組織化的手法による微細加工 / 益子信郎 [執筆] マイクロリキッドプロセスを用いたデバイスの創成と将来展望 / 下田達也 [執筆] 連続型EUVリソグラフィ開発と樹脂感光性評価 / 東博純 [執筆] 新しい露光方法に対応したレジスト材料の開発 / 緒方寿幸 [執筆]
件　名	NDLSH:オプトエレクトロニクス NDLSH:半導体
一般注記	(社)高分子学会主催のセミナー(2002年4月16日開催)を講演録として編集したもの奥付の編集: エヌ・ティー・エス編集企画部各章末: 参考文献応用編は固有の標題をもつ別書誌<BA62862404>
分　類	NDC9:549.8 NDC9:549.95 NDLC:ND371
書誌ID	BB10154668
本文言語	日本語
巻冊次	基礎編 ; ISBN:4860430069 ; PRICE:24000円+税
NCID	BA59010960

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